Nadeshiko Keana Pore Hide and Seek Base - podkladová báze pod makeup, 12g
-
Viditelně redukuje póry a vyrovnává texturu pleti
-
Prodlužuje výdrž make-upu bez zatížení pleti
-
Absorbuje přebytečný maz a zabraňuje lesku
Detailní popis produktu
Dokonalý základ pro bezvadnou pleť.
Chcete mít hladkou pleť bez viditelných pórů?Nadeshiko Keana Goodbay Pore Makeup Base je podkladová báze pod make-up, která minimalizuje vzhled pórů, vyhlazuje pleť a prodlužuje výdrž make-upu.
Lehce překryje viditelné póry a černé tečky a zanechá pokožku hladkou během celého dne. Má pěnovou texturu, snadno se roztírá, matuje T-zónu a zabraňuje lesknutí.
Typ pleti: Vhodná pro všechny typy pleti.
Kľúčové zložky:
- Prášek na rozmazání pórů: Opticky zjemňuje texturu pleti.
- Extrakt z japonské červené fazole (adzuki): Podporuje zdravý vzhled pokožky.
- Hydratační složky: Udržují pleť svěží a bez pocitu suchosti.
Jak použít:
Po pleťovém krému naneste přiměřené množství na koneček prstu a malými krouživými pohyby jemně vmasírujte do pórů.
Složení:
Dimethicone, Cyclopentasiloxane, (Dimethicone/Vinyl Dimethicone) Crosspolymer, Acrylates Crosspolymer, (Vinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane) Crosspolymer, Trimethylsiloxysilicate, Isononyl Isononanoate, Dimethylsilylated Silica, Silk Sericin, Hydrolysed Silk, Hydrolysed Collagen, Water-Soluble Collagen, Sodium Hyaluronate, Water-Soluble Collagen Crosspolymer, Triethoxycaprylylsilane, Water, Bg, Hydrogendimethicone, Methicone, Phenoxyethanol, Titanium Oxide, Talc, Iron Oxide, A Hydroxide.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | Péče o pleť |
|---|---|
| Záruka: | 2 roky |
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Pouze registrovaní uživatelé mohou vkládat příspěvky. Prosím přihlaste se nebo se registrujte.