Nadeshiko Keana Pore Hide and Seek Base - podkladová báza pod makeup, 12g

Podrobný popis

Dokonalý základ pre bezchybnú pleť.

Chcete mať hladkú pleť bez viditeľných pórov? Nadeshiko Keana Goodbay Pore Makeup Base je podkladová báza pod makeup, ktorá minimalizuje vzhľad pórov, vyhladzuje pleť a predlžuje výdrž make-upu.

Ľahko prekryje viditeľné póry a čierne bodky a zanechá pokožku hladkú počas celého dňa. Má penovú textúru, ľahko sa rozotiera, zmatňuje T-zónu a zabraňuje lesknutiu.

Typ pleti: Vhodná pre všetky typy pleti.

Kľúčové zložky:

• Prášok na rozmazanie pórov: Opticky zjemňuje textúru pleti.
• Extrakt z japonskej červenej fazule (adzuki): Podporuje zdravý vzhľad pokožky.
• Hydratačné zložky: Udržiavajú pleť sviežu a bez pocitu suchosti.

Ako použiť:

Po pleťovom kréme naneste primerané množstvo na konček prsta a malými krúživými pohybmi jemne vmasírujte do pórov.

Zloženie:

Dimethicone, Cyclopentasiloxane, (Dimethicone/Vinyl Dimethicone) Crosspolymer, Acrylates Crosspolymer, (Vinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane) Crosspolymer, Trimethylsiloxysilicate, Isononyl Isononanoate, Dimethylsilylated Silica, Silk Sericin, Hydrolysed Silk, Hydrolysed Collagen, Water-Soluble Collagen, Sodium Hyaluronate, Water-Soluble Collagen Crosspolymer, Triethoxycaprylylsilane, Water, Bg, Hydrogendimethicone, Methicone, Phenoxyethanol, Titanium Oxide, Talc, Iron Oxide, A Hydroxide.